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MEC 专注于 CMP 设备模块制造与本地化服务
我们为衬底和晶圆制造企业提供高性价比的CMP设备技术解决方案,支持模块级替代、工艺适配与整机维护
了解工艺
本地制造 快速交付
自主制造抛光头、清洗臂等关键模块
设备升级 提升效率
提供整机调试、控制系统替换、SAT(Site Acceptance Test)交付支持
耗材适配 工艺优化
联合客户优化CMP工艺,提升良率与一致性
联合开发 灵活定制
提供OEM/ODM技术服务,适配多类产线需求
企业荣誉
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2024年11月28日,铭扬半导体科技(合肥)有限公司获高新技术企业证书,彰显其在半导体领域技术创新实力获权威认可。
自成立以来,铭扬依托自主技术体系,迅速完成多款CMP设备的迭代与产业化落地。
第二款6/8英寸CMP设备已在国内多家客户现场实现规模化部署,支持快速晶圆切换及工艺定制化。
第三款8英寸平台率先实现“干进干出”功能,已通过高端器件厂及先进封装厂的量产验证。
新一代模块化CMP平台进一步拓展至PolySi、GaN、金刚石等难加工材料的抛光工艺,显著强化了公司在光学衬底、功率器件等高端应用的技术壁垒。
截至目前,公司已取得多项核心技术成果,构建了自主可控的知识产权体系。作为业内少数同时拥有CMP整机、工艺、耗材及服务能力的本土厂商,铭扬不断推进CMP设备技术的国产突破,加速宽禁带半导体领域从材料、装备到应用的全面自主。
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